Das aufrechte metallografische Computermikroskop HST301-EW bietet Kunden kostengünstige metallografische Analyse- und industrielle Inspektionslösungen mit hervorragendem Bildgebungssystem und komforta
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Das aufrechte metallografische Computermikroskop HST301-EW bietet Kunden kostengünstige metallografische Analyse- und industrielle Inspektionslösungen mit hervorragendem Bildgebungssystem und komfortabler Bedienung. Die Struktur übernimmt das Beobachtungsrohr mit dem bequemsten Winkel des Neugeborenenbetts, was die Anspannung und Ermüdung der Benutzer im Langzeitarbeitszustand lindern und den besten Beobachtungszustand gewährleisten kann. Mithilfe der Skala am Beobachtungsrohr können Benutzer den optimalen Pupillenabstandsbereich bequem selbst einstellen.
Das aufrechte metallografische Computermikroskop HST301-EW integriert einen stabilen Mikroskop-Host, ein hochauflösendes Kameragerät und eine echte metallografische Bildanalysesoftware, die Benutzern eine vollständige Palette effizienter Lösungen zur Erkennung und Analyse metallografischer Strukturen bieten kann.
Dieses Mikroskop wird häufig in der metallografischen Strukturanalyse von Metallmaterialien (einschließlich Perlit, Sphäroidisierungsrate, Korngröße, Graphitmorphologie usw.), in der metallografischen Analyse von Lehre und wissenschaftlicher Forschung, in der Feinmechanikmessung und in anderen Bereichen eingesetzt. Es ist ein unverzichtbares und wichtiges Werkzeug in der Materialwissenschaft, der Metallurgietechnik, dem Maschinenbau und anderen Branchen.
Helligkeitsspeicherfunktion
Die Helligkeitsspeicherfunktion kann die Beleuchtungshelligkeit bei Verwendung jedes Objektivs speichern und die Lichtintensität automatisch anpassen, wenn verschiedene Objektive gewechselt werden.
Alle Serien semiapochromatischer Hellfeldobjektive
Die Objektive nutzen hochdurchlässige Linsen und fortschrittliche Beschichtungstechnologie, um die natürliche Farbe der Probe wirklich wiederherzustellen. Das semi-apochromatische Design verfügt über eine hervorragende Korrekturleistung der chromatischen Aberration, was den Kontrast und die Klarheit des beobachteten Bildes verbessert.
Hochauflösende Sony-Chipkamera
Bei der Kamera handelt es sich um eine C-Mount-CMOS-Kamera mit einem Sony CMOS-Sensor, eine ideale metallografische Mikroskopkamera für hochwertige Hellfeld-, Dunkelfeld-, polarisierte, Schwachlicht- und Fluoreszenz-Lichtfeldmikroskopie-Bildgebung, geeignet für materialwissenschaftliche Anwendungen.
Bildzusammenfügung
Die Bildmesssoftware kann durch Bewegen des Tisches realisiert werden. Der Prozess der manuellen Bildzusammenfügung kann die Bildzusammenfügungsfunktion verschiedener Vergrößerungen realisieren, um ein klares Bild mit einem großen Sichtfeld zu erhalten.
Tiefenschärfefusion in Echtzeit
Mit der Tiefenschärfesynthesefunktion in der Bildmesssoftware können Sie das Mikroskop drehen, um verschiedene Tiefenschärfepunkte fein abzustimmen, während die Kamera die Schärfentiefe des mikroskopischen Bildes sofort in Echtzeit erweitert. Die Details des gesamten Rahmens sind auf einen Blick klar und Sie werden nie wieder verschwommene Bilder sehen!
Technische Parameter
Name | Spezifikation |
Optisches System | Unendlich korrigiertes optisches System mit chromatischer Aberration |
Beobachtungsrohr | 30° Neigung, Dreiwege-Beobachtungstubus mit Infinity-Scharnier, Einstellung des Pupillenabstands: 50 mm ~ 75 mm, einseitige Dioptrieneinstellung: -2/+8 Dioptrien, zweistufiges Teilungsverhältnis R:T=100:0 oder 50:50 |
Okular | Hoher Augenpunkt und weites Sichtfeld, Flachfeldokular SWH10X/23 mm (Dioptrie einstellbar) |
Ziel | Halbverbundmetallografisches Flachfeld-Hellfeldobjektiv 5X/NA0,15 WD15 |
Halbverbundmetallografisches Flachfeld-Hellfeldobjektiv 10X/NA0,30 WD8,4 | |
Halbverbundmetallografisches Flachfeld-Hellfeldobjektiv 20X/NA0,45 WD3,0 | |
Halbverbundmetallografisches Flachfeld-Hellfeldobjektiv 50X/NA0,75 WD3,0 | |
Halbverbundmetallografisches Flachfeld-Hellfeldobjektiv 100X/NA0,90 WD1,0(optional) | |
Objektivkonverter | Hochpräziser interner Positionierungs-5-Loch-Hellfeldkonverter, Helligkeitsspeicherfunktion. |
Fokussierungsmechanismus | Grob- und Fein-Koaxialfokussierungsmechanismus in niedriger Handposition, Grobeinstellungshub 30 mm,Feineinstellungsgenauigkeit 0,001 mm. Mit Einstellspannvorrichtung zur Verhinderung von Verrutschen und zufälliger Oberbegrenzungsvorrichtung. Mit Mechanismus zur Einstellung der Plattformposition nach oben und unten, maximale Probenhöhe 40 mm. |
Bühne | Doppelschichtige mechanische bewegliche Plattform, niedrige Handposition, koaxiale Einstellung in X- und Y-Richtung; Plattformfläche 240 x 175 mm, Arbeitsfläche: 135 x 125 mm, Bewegungsbereich: 75 x 50 mm, kann mit einer Metallbühne zur Reflexion ausgestattet werden. |
Reflektiertes Beleuchtungssystem | Adaptive Weitspannung 100V-240V_AC50/60Hz, reflektierender Lampenraum, einzelne Hochleistungs-10W-LED, warme Farbe, Kohler-Beleuchtung, mit Feldblende und Aperturblende, in der Mitte verstellbar, |
Polarisierende Komponente | Analysator, Polarisator. |
Weiteres Zubehör | Fotozubehör: 0,5-facher C-Mount, einstellbarer Fokus; |
Sony-Chip-FEG-12-Megapixel-Kamera, Computer-Bildgebungssystem FCL-RS | |
Metallografische Bildanalysesoftware FMIA2025, hochpräzises Mikrometer (Rasterwert 0,01 mm) | |
Computer | Marken-Business-Computer(optional) |